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英特爾(INTC)將于今年晚些時(shí)候獲得先進(jìn)的阿斯麥(ASML)芯片制造工具


(資料圖片僅供參考)

金吾財(cái)訊 | 美國(guó)芯片制造商的一位高管周五告訴媒體,英特爾(INTC)預(yù)計(jì)將于今年晚些時(shí)候從荷蘭制造商阿斯麥(ASML)收到其第一臺(tái)下一代極紫外光刻機(jī) High-NA EUV。

“我周一在 ASML。我們應(yīng)該會(huì)在今年晚些時(shí)候得到它(高數(shù)值孔徑 EUV)。他們正在努力將所有這些放在一起并做好準(zhǔn)備。所以,到目前為止,一切都很好,”英特爾技術(shù)開(kāi)發(fā)總經(jīng)理Ann Kelleher在接受采訪時(shí)表示。

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